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Objetivo de tungsteno

Breve descripción:

Nombre del producto: Objetivo de pulverización de tungsteno (W)

Grado: W1

Pureza disponible (%): 99,5%, 99,8%, 99,9%, 99,95%, 99,99%

Forma: Placa, redonda, giratoria, tubo/tubo

Especificación: según las demandas de los clientes

Estándar: ASTM B760-07,GB/T 3875-06

Densidad: ≥19,3g/cm3

Punto de fusión: 3410°C

Volumen atómico: 9,53 cm3/mol

Coeficiente de temperatura de resistencia: 0,00482 I/℃


Detalle del producto

Etiquetas de productos

parametros del producto

nombre del producto Objetivo de pulverización catódica de tungsteno (W)
Calificación W1
Pureza disponible (%) 99,5%,99,8%,99,9%,99,95%,99,99%
Forma: Placa, redonda, giratoria, tubo/tubo
Especificación Como los clientes exigen
Estándar ASTM B760-07, GB/T 3875-06
Densidad ≥19,3g/cm3
Punto de fusion 3410°C
volumen atómico 9,53 cm3/mol
Coeficiente de temperatura de resistencia. 0,00482 I/℃
Calor de sublimación 847,8 kJ/mol(25℃)
Calor latente de fusión 40,13 ± 6,67 kJ/mol
Estado Objetivo de tungsteno plano, objetivo de tungsteno giratorio, objetivo de tungsteno redondo
estado superficial Lavado polaco o alcalino
Hechura Billet de tungsteno (materia prima) - Prueba - Laminación en caliente - Nivelación y recocido - Lavado alcalino - Polaco - Prueba - Embalaje

El objetivo de tungsteno pulverizado y sinterizado tiene las características de una densidad del 99 % o superior, el diámetro de textura transparente promedio es de 100 um o menos, el contenido de oxígeno es de 20 ppm o menos y la fuerza de deflexión es de aproximadamente 500 MPa;mejora la producción de polvo metálico sin procesar. Para mejorar la capacidad de sinterización, el costo del objetivo de tungsteno se puede estabilizar a un precio bajo.El objetivo de tungsteno sinterizado tiene una alta densidad, tiene un marco transparente de alto nivel que no se puede lograr mediante el método tradicional de prensado y sinterización, y mejora significativamente el ángulo de desviación, de modo que las partículas se reducen significativamente.

Ventaja

(1) Superficie lisa sin poros, rayones ni otras imperfecciones

(2) Borde rectificado o torneado, sin marcas de corte

(3) Nivel inmejorable de pureza material.

(4) Alta ductilidad

(5) Microestructura homogénea

(6) Marcado láser para su artículo especial con nombre, marca, tamaño de pureza, etc.

(7) Cada unidad de objetivos de pulverización catódica desde el número de artículo y el número de materiales en polvo, los trabajadores de mezcla, el tiempo de salida de gas y HIP, la persona que mecaniza y los detalles del embalaje son fabricados por nosotros mismos.

Todos esos pasos pueden prometerle que una vez que se cree un nuevo objetivo o método de pulverización catódica, se podrá copiar y conservar para respaldar productos de calidad estable.

Otra ventaja

Materiales de alta calidad

(1) 100 % densidad = 19,35 g/cm³

(2) Estabilidad dimensional

(3) Propiedades mecánicas mejoradas

(4) Distribución uniforme del tamaño de grano

(5) Tamaños de grano pequeños

Apalaches

El material objetivo de tungsteno se utiliza principalmente en la industria aeroespacial, fundición de tierras raras, fuentes de luz eléctrica, equipos químicos, equipos médicos, maquinaria metalúrgica, equipos de fundición, petróleo y otros campos.


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