• cabeza_banner_01
  • cabeza_banner_01

Objetivo de tantalio

Breve descripción:

Material: tantalio

Pureza: 99,95% min o 99,99% min

Color: Metal plateado brillante y muy resistente a la corrosión.

Otro nombre: Ta objetivo

Estándar: ASTM B 708

Tamaño: diámetro >10 mm * espesor >0,1 mm

Forma: Plana

Cantidad mínima de pedido: 5 piezas

Plazo de entrega: 7 días


Detalle del producto

Etiquetas de productos

parametros del producto

Nombre del producto: objetivo de tantalio puro de alta pureza
Material tantalio
Pureza 99,95% mín. o 99,99% mín.
Color Un metal plateado brillante y muy resistente a la corrosión.
Otro nombre Ta objetivo
Estándar Norma ASTM B 708
Tamaño Diámetro >10 mm * espesor >0,1 mm
Forma plano
Cantidad mínima de pedido 5 piezas
El tiempo de entrega 7 días
Usado Máquinas de recubrimiento por pulverización catódica

Tabla 1: Composición química

Química (%)
Designación Componente principal Máximo de impurezas
Ta Nb Fe Si Ni W Mo Ti Nb O C H N
Ta1 Resto   0.004 0.003 0.002 0.004 0.006 0.002 0,03 0,015 0.004 0.0015 0.002
Ta2 Resto   0,01 0,01 0.005 0,02 0,02 0.005 0,08 0,02 0,01 0.0015 0,01

Tabla 2: Requisitos mecánicos (condición recocida)

Grado y tamaño

recocido

Resistencia a la tracciónmín., psi (MPa)

Límite elástico mínimo, psi (MPa)(2%)

Alargamiento mínimo, % (longitud de calibre de 1 pulgada)

Hoja, papel de aluminio.y tablero (RO5200, RO5400) Espesor<0,060"(1,524 mm)Espesor≥0.060"(1.524mm)

30000 (207)

20000 (138)

20

25000 (172)

15000 (103)

30

Ta-10W (RO5255)Hoja, papel de aluminio.y tablero

70000 (482)

60000 (414)

15

70000 (482)

55000 (379)

20

Ta-2,5W (RO5252)Espesor<0,125" (3,175 mm)Espesor≥0,125" (3,175 mm)

40000 (276)

30000 (207)

20

40000 (276)

22000 (152)

25

Ta-40Nb (RO5240)Grosor <0,060"(1,524 mm)

40000 (276)

20000 (138)

25

Espesor>0,060"(1,524 mm)

35000 (241)

15000 (103)

25

Tamaño y pureza

Diámetro: diámetro (50~400) mm

Grosor: (3~28 mm)

Grado: RO5200,RO 5400, RO5252(Ta-2.5W), RO5255(Ta-10W)

Pureza: >=99,95%, >=99,99%

Nuestra ventaja

Recristalización: 95 % mínimo Tamaño de grano: mínimo 40 μm Rugosidad de la superficie: Ra 0,4 máx Planitud: 0,1 mm o 0,10 % máx.Tolerancia: tolerancia del diámetro +/- 0,254

Solicitud

El objetivo de tantalio, como material de electrodo y material de ingeniería de superficies, se ha utilizado ampliamente en la industria del recubrimiento de pantallas de cristal líquido (LCD), corrosión resistente al calor y alta conductividad.


  • Anterior:
  • Próximo:

  • Escribe aquí tu mensaje y envíanoslo

    Productos relacionados

    • Objetivos de pulverización de alta pureza, 99,8% titanio, grado 7, objetivo de aleación de ti para proveedor de fábrica de recubrimiento

      Alta pureza 99,8% titanio grado 7 rondas sputtering...

      Parámetros del producto Nombre del producto Objetivo de titanio para máquina de recubrimiento pvd Grado Titanio (Gr1, Gr2, Gr5, Gr7, GR12) Objetivo de aleación: Ti-Al, Ti-Cr, Ti-Zr, etc. Origen Ciudad de Baoji Provincia de Shaanxi China Contenido de titanio ≥99,5 (% ) Contenido de impurezas <0,02 (%) Densidad 4,51 o 4,50 g/cm3 Estándar ASTM B381;ASTM F67, ASTM F136 Tamaño 1. Objetivo redondo: Ø30--2000 mm, espesor 3,0 mm--300 mm;2. Objetivo de la placa: Longitud: 200-500 mm Ancho: 100-230 mm de espesor...

    • Objetivo de pulverización de molibdeno 3N5, material Mo, 99,95%, forma redonda de alta pureza, para revestimiento y decoración de vidrio

      forma redonda de alta pureza 99,95% material Mo 3N5...

      Parámetros del producto Marca HSG Metal Número de modelo Objetivo HSG-molibdeno Grado MO1 Punto de fusión (℃) 2617 Procesamiento Sinterización/Forma forjada Forma especial Material de las piezas Molibdeno puro Composición química Mo:> =99,95% Certificado ISO9001:2015 Estándar ASTM B386 Superficie brillante y rectificada Densidad de la superficie 10,28 g/cm3 Color Brillo metálico Pureza Mo:> = 99,95 % Aplicación Película de revestimiento PVD en la industria del vidrio, pl...

    • Objetivo de tungsteno

      Objetivo de tungsteno

      Parámetros del producto Nombre del producto Objetivo de pulverización catódica de tungsteno (W) Grado W1 Pureza disponible (%) 99,5%, 99,8%, 99,9%, 99,95%, 99,99% Forma: placa, redonda, giratoria, tubería/tubo Especificación Según exige el cliente Estándar ASTM B760- 07,GB/T 3875-06 Densidad ≥19,3g/cm3 Punto de fusión 3410°C Volumen atómico 9,53 cm3/mol Coeficiente de temperatura de resistencia 0,00482 I/℃ Calor de sublimación 847,8 kJ/mol(25℃) Calor latente de fusión 40,13±6,67 kJ/mol...

    • Objetivo de niobio

      Objetivo de niobio

      Parámetros del producto Especificación Artículo ASTM B393 Objetivo de niobio pulido puro 9995 para la industria Estándar ASTM B393 Densidad 8,57 g/cm3 Pureza ≥99,95 % Tamaño según los dibujos del cliente Inspección Pruebas de composición química, pruebas mecánicas, inspección ultrasónica, detección de tamaño de apariencia Grado R04200, R04210, R04251 , R04261 Pulido y rectificado de superficies Técnica sinterizado, laminado, forjado Característica Resid...