Forma redonda de alta pureza 99.95% Mo material 3N5 Objetivo de pulverización de molibdeno para revestimiento y decoración de vidrio
parametros del producto
| Nombre de la marca | Metal HSG |
| Número de modelo | objetivo de HSG-molibdeno |
| Calificación | MO1 |
| Punto de fusión (℃) | 2617 |
| Procesando | Sinterizado/ Forjado |
| Forma | Piezas de forma especial |
| Material | molibdeno puro |
| Composición química | Mes: > =99,95 % |
| Certificado | ISO9001:2015 |
| Estándar | ASTM B386 |
| Superficie | Superficie brillante y de tierra |
| Densidad | 10,28 g/cm3 |
| Color | Lustre metálico |
| Pureza | Mes: > =99,95 % |
| Solicitud | Película de recubrimiento PVD en la industria del vidrio, revestimiento iónico |
| Ventaja | Resistencia a altas temperaturas, alta pureza, mejor resistencia a la corrosión |
La disponibilidad estándar se describe a continuación.Otros tamaños y tolerancias están disponibles.
| Espesor | máx.Ancho | máx.Longitud |
| .090" | 24" | 110" |
| .125" | 24" | 80" |
| .250" | 24" | 40" |
| .500" | 24" | 24" |
| >.500" | 24" |
Para espesores mayores, los productos de placa normalmente se limitan a un peso máximo de 40 kilogramos por pieza. Tolerancia de espesor estándar de placa de molibdeno
| Espesor | .25" a 6" | 6" a 12" | 12" a 24" |
| .090" | ± 0,005" | ± 0,005" | ± 0,005" |
| > .125 | ± 4% | ± 4% | ± 4% |
Tolerancia de ancho estándar de placa de molibdeno
| Espesor | .25" a 6" | 6" a 12" | 12" a 24" |
| .090" | ± 0,031" | ± 0,031" | ± 0,031" |
| > .125 | ± .062" | ± 062" | ± 062" |
Nota
Hoja (0,13 mm ≤ espesor ≤ 4,75 mm)
Placa (espesor > 4,75 mm)
Se pueden negociar otras dimensiones.
El objetivo de molibdeno es un material industrial, ampliamente utilizado en vidrio conductor, STN/TN/TFT-LCD, vidrio óptico, recubrimiento de iones y otras industrias.Es adecuado para todos los sistemas de recubrimiento plano y de recubrimiento por rotación.
El objetivo de molibdeno tiene una densidad de 10,2 g/cm3.El punto de fusión es 2610°C.El punto de ebullición es 5560°C.
Pureza del objetivo de molibdeno: 99,9 %, 99,99 %
Especificaciones: objetivo redondo, objetivo de placa, objetivo giratorio
Rasgo
Excelente conductividad de la electricidad;
Resistencia de alta temperatura;
Alto punto de fusión, alta oxidación y resistencia a la erosión.
Solicitud
Ampliamente utilizado como electrodos o material de cableado, en el circuito integrado de semiconductores, pantalla plana y fabricación de paneles solares y otros campos.Al mismo tiempo, tenemos la producción de tungsteno, objetivo de tantalio, objetivo de niobio, objetivo de cobre, las dimensiones específicas de producción de acuerdo con los requisitos del cliente.
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