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Hojas finas polacas del tungsteno de la hoja de la placa del tungsteno de la pureza elevada 99,95% del OEM para la industria

Breve descripción:

Marca: HSG

Estándar: ASTMB760-07;GB/T3875-83

Grado: W1,W2,WAL1,WAL

Densidad: 19,2 g/cc

Pureza: ≥99,95%

Tamaño: Grosor 0,05 mm mínimo*Ancho300 mm máximo*L1000 mm máximo

Superficie: Limpieza negra/alcalina/pulida


Detalle del producto

Etiquetas de productos

Parametros del producto

Marca HSG
Estándar ASTMB760-07;GB/T3875-83
Calificación W1,W2,WAL1,WAL2
Densidad 19,2 g/cc
Pureza ≥99,95%
Tamaño Grosor 0,05 mm mínimo*Ancho300 mm máximo*L1000 mm máximo
Superficie Negro/limpieza alcalina/pulido
Punto de fusion 3260C
Proceso laminación en caliente

composición química

Composición química

Contenido de impurezas (%), ≤

Al Ca Fe Mg Mo Ni Si C N O
Balance 0.002 0.005 0.005 0.003 0,01 0.003 0.005 0.008 0.003 0.005

Dimensiones y variaciones permitidas.

Espesor Tolerancia de grosor Ancho Tolerancia de ancho Longitud Tolerancia de longitud

I

II

0,10-0,20 ±0,02 ±0,03 30-150

±3

50-400

±3

>0,20-0,30 ±0,03 ±0,04 50-200

±3

50-400

±3

>0,30-0,40 ±0,04 ±0,05 50-200

±3

50-400

±3

>0,40-0,60 ±0,05 ±0,06 50-200

±4

50-400

±4

>0,60-0,80 ±0,07 ±0,08 50-200

±4

50-400

±4

>0,8-1,0 ±0,08 ±0,10 50-200

±4

50-400

±4

>1,0-2,0 ±0,12 ±0,20 50-200

±5

50-400

±5

>2,0-3,0 ±0,02 ±0,30 50-200

±5

50-400

±5

>3.0-4.0 ±0,03 ±0,40 50-200

±5

50-400

±5

>4.0-6.0 ±0,04 ±0,50 50-150

±5

50-400

±5

Característica

Alto punto de fusión, alta densidad, resistencia a la oxidación a altas temperaturas, larga vida útil, resistencia a la corrosión.

El tubo de tungsteno se usa ampliamente en tubos de protección de termopares, hornos de cristal de zafiro y hornos de alta temperatura, etc. Bango puede proporcionar tubos de tungsteno con alta precisión, acabado superficial, tamaño recto y deformación a alta temperatura.

Solicitud

Aplicaciones de la placa de tungsteno: placa de tungsteno con una pureza del 99,95%

1. Componentes de resistencia al calor: escudo térmico, elemento calefactor del horno de vacío de alta temperatura.

2. Objetivos de pulverización catódica de tungsteno para el recubrimiento al vacío y el recubrimiento por evaporación.

3. Componentes electrónicos y semiconductores.

4. Componentes implantados con iones.

5. Botes de tungsteno para hornos de cristal de zafiro y hornos de vacío.

6. Industria poco clara: el primer muro de reactores de fusión


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