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Objetivo de tungsteno

Descripción breve:

Nombre del producto: Tungsten (W) Target de pulverización

Grado: W1

Pureza disponible (%): 99.5%, 99.8%, 99.9%, 99.95%, 99.99%

Forma: placa, redonda, rotativa, tubería/tubo

Especificación: a medida que los clientes exigen

Estándar: ASTM B760-07, GB/T 3875-06

Densidad: ≥19.3g/cm3

Punto de fusión: 3410 ° C

Volumen atómico: 9.53 cm3/mol

Coeficiente de temperatura de resistencia: 0.00482 I/℃


Detalle del producto

Etiquetas de productos

Parámetros del producto

Nombre del producto Tungsteno (W) Target de pulverización
Calificación W1
Pureza disponible (%) 99.5%, 99.8%, 99.9%, 99.95%, 99.99%
Forma: Placa, redonda, rotativa, tubería/tubo
Especificación Como los clientes exigen
Estándar ASTM B760-07, GB/T 3875-06
Densidad ≥19.3g/cm3
Punto de fusión 3410 ° C
Volumen atómico 9.53 cm3/mol
Coeficiente de temperatura de resistencia 0.00482 I/℃
Calor de sublimación 847.8 kJ/mol (25 ℃)
Calor latente de fusión 40.13 ± 6.67kJ/mol
Estado Objetivo de tungsteno plano, objetivo de tungsteno giratorio, objetivo de tungsteno redondo
estado de superficie Lavado de polaco o álcali
Hechura Billet de tungsteno (materia prima)-Test-Levelado en caliente y recocido-alcali-volcado de lavado

El objetivo de tungsteno rociado y sinterizado tiene las características de densidad del 99% o más, el diámetro de textura transparente promedio es de 100um o menos, el contenido de oxígeno es de 20 ppm o menos y la fuerza de deflexión es de aproximadamente 500MPA; Mejora la producción de polvo de metal sin procesar para mejorar la capacidad de sinterización, el costo del objetivo de tungsteno puede estabilizarse a un precio bajo. El objetivo de tungsteno sinterizado tiene una alta densidad, tiene un marco transparente de alto nivel que no puede lograrse mediante el método tradicional de presión y sinterización, y mejora significativamente el ángulo de deflexión, de modo que la materia partícula se reduce significativamente.

Ventaja

(1) superficie lisa sin poro, rasguño y otra imperfección

(2) Edge de molienda o tumbo, sin marcas de corte

(3) Lerel inmejorable de pureza de material

(4) Alta ductilidad

(5) micro trucalura homogénea

(6) Marcado láser para su artículo especial con nombre, marca, tamaño de pureza, etc.

(7) Todas las PC de los objetivos de pulverización del elemento y el número de materiales de polvo, la mezcla de trabajadores, el tiempo y el tiempo de cadera, la persona de mecanizado y los detalles de embalaje nos hemos hecho nosotros mismos.

Todos esos pasos pueden prometerle que una vez que se crea un nuevo objetivo o método de pulverización, podría copiarse y mantenerse para admitir productos de calidad Stabel.

Otra dvencia

Materiales de alta calidad

(1) Densidad 100 % = 19.35 g/cm³

(2) estabilidad dimensional

(3) Propiedades mecánicas mejoradas

(4) Distribución de tamaño de grano uniforme

(5) Tamaños de grano pequeño

Apalaches

El material objetivo de tungsteno se utiliza principalmente en aeroespacial, fundición de tierras raras, fuente de luz eléctrica, equipos químicos, equipos médicos, maquinaria metalúrgica, equipos de fundición, petróleo y otros campos.


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