Objetivo de tungsteno
Parámetros del producto
| Nombre del producto | Blanco de pulverización catódica de tungsteno (W) |
| Calificación | W1 |
| Pureza disponible (%) | 99,5%, 99,8%, 99,9%, 99,95%, 99,99% |
| Forma: | Placa, redonda, rotatoria, tubo/tubería |
| Especificación | Según las demandas de los clientes |
| Estándar | ASTM B760-07, GB/T 3875-06 |
| Densidad | ≥19,3 g/cm3 |
| Punto de fusión | 3410 °C |
| Volumen atómico | 9,53 cm3/mol |
| Coeficiente de temperatura de resistencia | 0,00482 I/℃ |
| Calor de sublimación | 847,8 kJ/mol (25 °C) |
| Calor latente de fusión | 40,13 ± 6,67 kJ/mol |
| Estado | Objetivo de tungsteno plano, objetivo de tungsteno giratorio, objetivo de tungsteno redondo |
| estado de la superficie | Lavado con pulimento o álcali |
| Hechura | Tocho de tungsteno (materia prima) - Prueba - Laminado en caliente - Nivelación y recocido - Lavado alcalino - Pulido - Prueba - Empaque |
El objetivo de tungsteno pulverizado y sinterizado presenta una densidad del 99 % o superior, un diámetro de textura transparente promedio de 100 µm o inferior, un contenido de oxígeno de 20 ppm o inferior y una fuerza de deflexión de aproximadamente 500 MPa; mejora la producción de polvo metálico sin procesar. Para mejorar la capacidad de sinterización, el coste del objetivo de tungsteno se puede estabilizar a un precio bajo. El objetivo de tungsteno sinterizado tiene una alta densidad, un marco transparente de alto nivel que no se puede lograr con el método tradicional de prensado y sinterización, y mejora significativamente el ángulo de deflexión, lo que reduce significativamente la materia particulada.
Ventaja
(1) Superficie lisa sin poros, rayones ni otras imperfecciones.
(2) Borde rectificado o torneado, sin marcas de corte
(3) Nivel imbatible de pureza material
(4) Alta ductilidad
(5) Microestructura homogénea
(6) Marcado láser para su artículo especial con nombre, marca, tamaño de pureza, etc.
(7) Todas las piezas de los objetivos de pulverización catódica, desde el artículo y número de materiales en polvo, los trabajadores de mezcla, el tiempo de desgasificación y HIP, la persona de mecanizado y los detalles de embalaje, todos los hacemos nosotros mismos.
Todos esos pasos pueden prometerle que una vez que se crea un nuevo objetivo o método de pulverización catódica, se podrá copiar y conservar para respaldar productos de calidad estable.
Otra ventaja
Materiales de alta calidad
(1) 100 % densidad = 19,35 g/cm³
(2) Estabilidad dimensional
(3) Propiedades mecánicas mejoradas
(4) Distribución uniforme del tamaño de grano
(5) Tamaños de grano pequeños
Apalaches
El material objetivo de tungsteno se utiliza principalmente en la industria aeroespacial, fundición de tierras raras, fuentes de luz eléctrica, equipos químicos, equipos médicos, maquinaria metalúrgica, equipos de fundición, petróleo y otros campos.
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